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BAG302
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BAG051
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BAG402
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BPG400
BPG400
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MAG470
MPG400
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MPG500
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MPG55x / MAG55x
MPG500
IKR251
IKR251
PEG100
PEG100
CDG020D
CDG020D
CDG025D
CDG025D
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CDG025D
CDG025D-X3
CDG025D-X3
CDG025D-X3 4-20mA
CDG025D-X3
CDG045D
CDG045D
CDG045D2
CDG045D
CDG045Dhs
CDG045D
CDG100D
CDG100D
CDG100Dhs
CDG100D
CDG100D2
CDG100D
CDG160D
CDG160D
Cube CDGsci
Cube CDGsci
VGC501
VGC501
PGD400
PGD400
VGC031
VGC031
VGC401
VGC401
VGC083
VGC083
VGD500
VGC083
OPG550
VGC083
Inficon薄膜沉積
Inficon Thin Film Deposition
SQC-310
SQC-310
SQM-160
SQM-160
LINXON myRGA
LINXON myRGA
LINXON LX218
LINXON LX218
Edwards
Edwards
Edwards真空計
Edwards Gauge
APG100
APG100
APGX-H
APGX-H
AIGX
AIGX
AIM
AIM
WRG
WRG
ASG
ASG
WRH
WRH
Passive Gauge
Passive Gauge
ADC
ADC
TIC
TIC
Edwards旋片真空泵
Edwards Vane Pump
RV12
RV12
E2M18
E2M18
E2M1.5
E2M1.5
E2M40
E2M40
E2M275
E2M275
Edwards渦旋泵
Edwards Scroll Pump
nXDS 15i
nXDS 15i
XDS 46i
XDS 46i
XDS100B
XDS100B
Edwards干式真空泵
Edwards Dry Pump
Edwards機械增壓泵
Edwards Roots pump
Edwards高真空泵
Edwards UHV pump
Stokes真空泵
Stokes Microvac
Granville-Phillips
Granville-Phillips
GP275
275 Mini-Convectron
GP307
307 Bayard-Alpert
GP316
316 Convectron
GP340
340 VGC
GP356
356 Micro-Ion Plus
GP350
350 UHV VGC
GP375
375 Convectron
GP475
475 Convectron
GP360
360 Stabil-Ion VGC
GP370
370 Stabil-Ion VGC
GP358
358 Micro-Ion VGC
GP347
347 Stabil-Ion
GP385
385 Convectron ATM
GP390
390 Micro-Ion ATM
GP392
392 Micro-Ion Plus
GP500
500 Cold Cathode
GP330
330 VGC
GP354
354 Micro-ion
GP274
274 Bayard-Alpert
Instrutech
Instrutech inc
CVM211
CVM211
CVM201
CVM201
IGM401
IGM401
CCM501
CCM501
PCM301
PCM301
CCM502
CCM502
WGM701
WGM701
CDM900
CDM900
IGM402
IGM402
CVG101
CVG101
BA600
BA600
CC605
CC605
VGC301
VGC301
AGC302
AGC302
B-RAX 3400
B-RAX 3400
FlexRax 4000
FlexRax 4000
Pfeiffer
Pfeiffer Vacuum
Pfeiffer真空測量
Pfeiffer真空測量
TPR270
TPR270
TPR280
TPR280
PCR280
PCR280
IKR251
IKR251
IKR270
IKR270
IKR360
IKR360
PKR251
PKR251
PKR361
PKR361
IMR265
IMR265
PBR260
PBR260
CMR361
CMR361
CMR371
CMR371
TPG361
TPG361
TPG366
TPG366
PPT200
PPT200
RPT200
RPT200
CPT200
CPT200
MPT200
MPT200
HPT200
HPT200
TTR91
TTR91
TTR101
TTR101
ITR90
ITR90
PTR225
PTR225
PTR91
PTR91
CCR361
CCR361
TPG500
TPG500
IMG400
IMG400
DuoLine Vacuum Pump
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Diaphragm Pump
Diaphragm Pump
Hicube Eco
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Fil-Tech
Fil-Tech inc
SQM220
SQM220
PREVAC
PREVAC
MG13
MG13
MG14
MG14
MG15
MG15
Focean Tech
Focean Tech
Flux Monitor
Flux Monitor
Focean微型皮拉尼真空計
Focean
PVG100微型皮拉尼真空計
PVG100
Osaka Vacuum
Osaka Vacuum
DSP
DSP
FR060D
FR060D
ER100D
ER100D
TG-F Series
TG-F Series
TG-M Series
TG-M Series
ST Series
ST Series
VAT
Iwata
61.3碟形控制閥
61.6 真空蝶形控制和隔離閥
54.1 真空全金屬角閥DN 16
54.1 真空全金屬角閥DN 40
54.1 真空全金屬角閥DN 63
MKP
MKP
VIC-D200
VIC-D200
VIC-W200
VIC-W200
VIC-D145
VIC-D145
CAF-145
CAF-145
PSC-D245
PSC-D245
EPC-220
EPC-220
TSM-D200
TSM-D200
Maru 7000 PI
Maru 7000 PI
EXO-100
EXO-100
MPR-Z200
MPR-Z200
MKS Instrument
MKS Instrument
RDMathis
RDMathis
BOAT SOURCES
BOAT SOURCES
FILAMENTS
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Inert Gas Purifier
Inert Gas Purifier
MDC Vacuum
MDC Vacuum
Duniway
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Terranova 809
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Terranova 905
Terranova 905
Terranova 906A
Terranova 906A
Terranova 907
Terranova 907
Terranova 908A
Terranova 908A
Terranova 921
Terranova 921
Terranova 924A
Terranova 924A
Terranova 926A
Terranova 926A
Terranova 934
Terranova 934
Terranova 960
Terranova 960
Terranova 970
Terranova 970
Terranova 990
Terranova 990
Extorr
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Residual Gas Analyzers
Residual Gas Analyzers
Atovac
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GVC2200
Vacuum Gauge Controller
GPC3000/ATV1000
Pressure Controller
GMC1200
Flow&Pressure Controller
Varian
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Iwata
Iwata
ThermoJet ES
ThermoJet ES
ThermoJet ES
ThermoJet ES
AirJet XE
AirJet XE
設備
Focean System
GAS材料放氣率分析系統
Gas analysis system
GMS氣體混合系統
Gas mixing system
IGS集成氣路系統
Integrated Gas System
VES真空排氣系統
Vacuum exhaust system
實驗室真空鍍膜機
Evaporation coating
服務
Service
Polycold
Polycold
Polycold冷媒
Polycold refrigerant
inTEST
Thermo System
真空泵料件及維修服務
Vacuum Pump Repair
應用
Application
新聞
News
真空計原理
Vacuum Gauge Principle
半導體制造主要設備及工藝流程
半導體制造主要設備及工藝流程
O型密封橡膠圈
半導體制造主要設備及工藝流程
熱電偶和熱電阻
半導體制造主要設備及工藝流程
全球半導體材料現狀
Current status of semiconductor materials worldwide
離子源原理
Ion source
半導體材料解讀
Semiconductor material
Residual Gas Analyzer介紹
Residual Gas Analyzer Introduction
氣體質量流量控制器原理
MFM&MFC
真空鍍膜機的配置
Coating
電子束蒸發鍍膜技術
EBCoating
化學氣相沉積薄膜技術
CVD
MOCVD技術介紹
MOCVD
MBE分子束外延技術
MBE
真空鍍膜中高純氣體的應用
Coating gas application
陰極電弧放電穩定性探討
MAIP
真空材料的選擇因素
Vacuum material
各真空度下的應用概況
Vacuum application
流體力學發展概況和趨勢
hydromechanics
AMOLED蒸鍍設備中的鍍膜技術應用解析
AMOLED
離子注入技術
ion implanter
PECVD技術培訓
PECVD技術培訓
原子層沉積ALD技術發展及應用
ALD
PVD真空鍍膜技術
PVD Technology
真空計的分類
Vacuum Gauge
羅茨真空泵
Roots vacuum pump
真空鍍膜技術簡介
Principle of vacuum gauge
真空泵常識
Vacuum pump
真空泵的選型策略
Vacuum pump selection
光譜儀的原理與結構
Spectrometer
真空知識及漏率及檢漏培訓
半導體制造主要設備及工藝流程
PVD薄膜沉積技術
半導體制造主要設備及工藝流程
真空測量設備選擇及常用真空計簡介
半導體制造主要設備及工藝流程
半導體潔凈室的空氣凈化技術綜述
半導體制造主要設備及工藝流程
半導體特種氣體供應系統設計綱要
半導體制造主要設備及工藝流程
氣柜部件—高純閥門及部件內部結構
半導體制造主要設備及工藝流程
PVD和CVD無機薄膜沉積方式
半導體制造主要設備及工藝流程
真空材料????表面常見的污染與凈化
半導體制造主要設備及工藝流程
GWP數據
半導體制造主要設備及工藝流程
鍍膜設備中常用離子源
半導體制造主要設備及工藝流程
離子注入原理
半導體制造主要設備及工藝流程
新真空測量系統通過首次測試!
半導體制造主要設備及工藝流程
常用的真空單位換算、真空常用計算公式簡介
半導體制造主要設備及工藝流程
真空鍍膜原理圖示
半導體制造主要設備及工藝流程
鍍膜的膜系結構和性能
半導體制造主要設備及工藝流程
各種真空計工作原理
半導體制造主要設備及工藝流程
真空設備檢漏的注意事項
半導體制造主要設備及工藝流程
真空鍍膜技術的問題與解答
半導體制造主要設備及工藝流程
真空鍍膜機的結構
半導體制造主要設備及工藝流程
原子層沉積工藝
半導體制造主要設備及工藝流程
JEOL電子槍/電源介紹
半導體制造主要設備及工藝流程
真空泵在制藥行業的應用
半導體制造主要設備及工藝流程
超高真空系統中常用到的泵
半導體制造主要設備及工藝流程
真空設備如何選用真空泵
半導體制造主要設備及工藝流程
分子泵應用及故障處理
半導體制造主要設備及工藝流程
鍍膜基礎知識
半導體制造主要設備及工藝流程
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在線咨詢
3030666790
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18080435377
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BAG302
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BAG051
BAG051
BAG402
BAG402
BPG400
BPG400
BPG402-S
BPG402-S
BCG450
BCG450
HPG400
HPG400
BAG050 - BAG053 & BAG055
BAG050 - BAG053 & BAG055
MAG050
MAG050
MAG470
MAG470
MPG400
MPG400
MPG500
MPG500
MPG55x / MAG55x
MPG500
IKR251
IKR251
PEG100
PEG100
CDG020D
CDG020D
CDG025D
CDG025D
CDG025D2
CDG025D
CDG025D-X3
CDG025D-X3
CDG025D-X3 4-20mA
CDG025D-X3
CDG045D
CDG045D
CDG045D2
CDG045D
CDG045Dhs
CDG045D
CDG100D
CDG100D
CDG100Dhs
CDG100D
CDG100D2
CDG100D
CDG160D
CDG160D
Cube CDGsci
Cube CDGsci
VGC501
VGC501
PGD400
PGD400
VGC031
VGC031
VGC401
VGC401
VGC083
VGC083
VGD500
VGC083
OPG550
VGC083
Inficon薄膜沉積
Inficon Thin Film Deposition
SQC-310
SQC-310
SQM-160
SQM-160
LINXON myRGA
LINXON myRGA
LINXON LX218
LINXON LX218
Edwards
Edwards
Edwards真空計
Edwards Gauge
APG100
APG100
APGX-H
APGX-H
AIGX
AIGX
AIM
AIM
WRG
WRG
ASG
ASG
WRH
WRH
Passive Gauge
Passive Gauge
ADC
ADC
TIC
TIC
Edwards旋片真空泵
Edwards Vane Pump
RV12
RV12
E2M18
E2M18
E2M1.5
E2M1.5
E2M40
E2M40
E2M275
E2M275
Edwards渦旋泵
Edwards Scroll Pump
nXDS 15i
nXDS 15i
XDS 46i
XDS 46i
XDS100B
XDS100B
Edwards干式真空泵
Edwards Dry Pump
Edwards機械增壓泵
Edwards Roots pump
Edwards高真空泵
Edwards UHV pump
Stokes真空泵
Stokes Microvac
Granville-Phillips
Granville-Phillips
GP275
275 Mini-Convectron
GP307
307 Bayard-Alpert
GP316
316 Convectron
GP340
340 VGC
GP356
356 Micro-Ion Plus
GP350
350 UHV VGC
GP375
375 Convectron
GP475
475 Convectron
GP360
360 Stabil-Ion VGC
GP370
370 Stabil-Ion VGC
GP358
358 Micro-Ion VGC
GP347
347 Stabil-Ion
GP385
385 Convectron ATM
GP390
390 Micro-Ion ATM
GP392
392 Micro-Ion Plus
GP500
500 Cold Cathode
GP330
330 VGC
GP354
354 Micro-ion
GP274
274 Bayard-Alpert
Instrutech
Instrutech inc
CVM211
CVM211
CVM201
CVM201
IGM401
IGM401
CCM501
CCM501
PCM301
PCM301
CCM502
CCM502
WGM701
WGM701
CDM900
CDM900
IGM402
IGM402
CVG101
CVG101
BA600
BA600
CC605
CC605
VGC301
VGC301
AGC302
AGC302
B-RAX 3400
B-RAX 3400
FlexRax 4000
FlexRax 4000
Pfeiffer
Pfeiffer Vacuum
Pfeiffer真空測量
Pfeiffer真空測量
TPR270
TPR270
TPR280
TPR280
PCR280
PCR280
IKR251
IKR251
IKR270
IKR270
IKR360
IKR360
PKR251
PKR251
PKR361
PKR361
IMR265
IMR265
PBR260
PBR260
CMR361
CMR361
CMR371
CMR371
TPG361
TPG361
TPG366
TPG366
PPT200
PPT200
RPT200
RPT200
CPT200
CPT200
MPT200
MPT200
HPT200
HPT200
TTR91
TTR91
TTR101
TTR101
ITR90
ITR90
PTR225
PTR225
PTR91
PTR91
CCR361
CCR361
TPG500
TPG500
IMG400
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DuoLine Vacuum Pump
DuoLine Vacuum Pump
Diaphragm Pump
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Hicube Eco
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Fil-Tech
Fil-Tech inc
SQM220
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PREVAC
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MG13
MG13
MG14
MG14
MG15
MG15
Focean Tech
Focean Tech
Flux Monitor
Flux Monitor
Focean微型皮拉尼真空計
Focean
PVG100微型皮拉尼真空計
PVG100
Osaka Vacuum
Osaka Vacuum
DSP
DSP
FR060D
FR060D
ER100D
ER100D
TG-F Series
TG-F Series
TG-M Series
TG-M Series
ST Series
ST Series
VAT
Iwata
61.3碟形控制閥
61.6 真空蝶形控制和隔離閥
54.1 真空全金屬角閥DN 16
54.1 真空全金屬角閥DN 40
54.1 真空全金屬角閥DN 63
MKP
MKP
VIC-D200
VIC-D200
VIC-W200
VIC-W200
VIC-D145
VIC-D145
CAF-145
CAF-145
PSC-D245
PSC-D245
EPC-220
EPC-220
TSM-D200
TSM-D200
Maru 7000 PI
Maru 7000 PI
EXO-100
EXO-100
MPR-Z200
MPR-Z200
MKS Instrument
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RDMathis
RDMathis
BOAT SOURCES
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FILAMENTS
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Inert Gas Purifier
Inert Gas Purifier
MDC Vacuum
MDC Vacuum
Duniway
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Terranova 809
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Terranova 905
Terranova 905
Terranova 906A
Terranova 906A
Terranova 907
Terranova 907
Terranova 908A
Terranova 908A
Terranova 921
Terranova 921
Terranova 924A
Terranova 924A
Terranova 926A
Terranova 926A
Terranova 934
Terranova 934
Terranova 960
Terranova 960
Terranova 970
Terranova 970
Terranova 990
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Extorr
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Residual Gas Analyzers
Residual Gas Analyzers
Atovac
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GVC2200
Vacuum Gauge Controller
GPC3000/ATV1000
Pressure Controller
GMC1200
Flow&Pressure Controller
Varian
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Iwata
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ThermoJet ES
ThermoJet ES
ThermoJet ES
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AirJet XE
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設備
Focean System
GAS材料放氣率分析系統
Gas analysis system
GMS氣體混合系統
Gas mixing system
IGS集成氣路系統
Integrated Gas System
VES真空排氣系統
Vacuum exhaust system
實驗室真空鍍膜機
Evaporation coating
服務
Service
Polycold
Polycold
Polycold冷媒
Polycold refrigerant
inTEST
Thermo System
真空泵料件及維修服務
Vacuum Pump Repair
應用
Application
新聞
News
真空計原理
Vacuum Gauge Principle
半導體制造主要設備及工藝流程
半導體制造主要設備及工藝流程
O型密封橡膠圈
半導體制造主要設備及工藝流程
熱電偶和熱電阻
半導體制造主要設備及工藝流程
全球半導體材料現狀
Current status of semiconductor materials worldwide
離子源原理
Ion source
半導體材料解讀
Semiconductor material
Residual Gas Analyzer介紹
Residual Gas Analyzer Introduction
氣體質量流量控制器原理
MFM&MFC
真空鍍膜機的配置
Coating
電子束蒸發鍍膜技術
EBCoating
化學氣相沉積薄膜技術
CVD
MOCVD技術介紹
MOCVD
MBE分子束外延技術
MBE
真空鍍膜中高純氣體的應用
Coating gas application
陰極電弧放電穩定性探討
MAIP
真空材料的選擇因素
Vacuum material
各真空度下的應用概況
Vacuum application
流體力學發展概況和趨勢
hydromechanics
AMOLED蒸鍍設備中的鍍膜技術應用解析
AMOLED
離子注入技術
ion implanter
PECVD技術培訓
PECVD技術培訓
原子層沉積ALD技術發展及應用
ALD
PVD真空鍍膜技術
PVD Technology
真空計的分類
Vacuum Gauge
羅茨真空泵
Roots vacuum pump
真空鍍膜技術簡介
Principle of vacuum gauge
真空泵常識
Vacuum pump
真空泵的選型策略
Vacuum pump selection
光譜儀的原理與結構
Spectrometer
真空知識及漏率及檢漏培訓
半導體制造主要設備及工藝流程
PVD薄膜沉積技術
半導體制造主要設備及工藝流程
真空測量設備選擇及常用真空計簡介
半導體制造主要設備及工藝流程
半導體潔凈室的空氣凈化技術綜述
半導體制造主要設備及工藝流程
半導體特種氣體供應系統設計綱要
半導體制造主要設備及工藝流程
氣柜部件—高純閥門及部件內部結構
半導體制造主要設備及工藝流程
PVD和CVD無機薄膜沉積方式
半導體制造主要設備及工藝流程
真空材料????表面常見的污染與凈化
半導體制造主要設備及工藝流程
GWP數據
半導體制造主要設備及工藝流程
鍍膜設備中常用離子源
半導體制造主要設備及工藝流程
離子注入原理
半導體制造主要設備及工藝流程
新真空測量系統通過首次測試!
半導體制造主要設備及工藝流程
常用的真空單位換算、真空常用計算公式簡介
半導體制造主要設備及工藝流程
真空鍍膜原理圖示
半導體制造主要設備及工藝流程
鍍膜的膜系結構和性能
半導體制造主要設備及工藝流程
各種真空計工作原理
半導體制造主要設備及工藝流程
真空設備檢漏的注意事項
半導體制造主要設備及工藝流程
真空鍍膜技術的問題與解答
半導體制造主要設備及工藝流程
真空鍍膜機的結構
半導體制造主要設備及工藝流程
原子層沉積工藝
半導體制造主要設備及工藝流程
JEOL電子槍/電源介紹
半導體制造主要設備及工藝流程
真空泵在制藥行業的應用
半導體制造主要設備及工藝流程
超高真空系統中常用到的泵
半導體制造主要設備及工藝流程
真空設備如何選用真空泵
半導體制造主要設備及工藝流程
分子泵應用及故障處理
半導體制造主要設備及工藝流程
鍍膜基礎知識
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IGS綜合氣路系統
供應產品
手動隔膜閥
氣動隔膜閥
過濾器
壓力傳感器
單向閥
逆止閥
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