熱電阻蒸發式真空鍍膜機
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熱電阻蒸發式真空鍍膜機
*非標定制實驗室設備
熱電阻蒸發式真空鍍膜機，采用熱電阻蒸發鍍膜，配1~3組電阻蒸發源，結構設計緊湊，性能穩定可靠，自動化操作界面，操控簡單方便。廣泛應用于科研院所、實驗室制備金屬、導電薄膜、光學薄膜等，同時可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力；選配電子槍，擴展沉積薄膜類型應用。
特點
一體式系統框架設計
前開門真空腔體，方便取放基片、添加蒸發材料以及真空室的日常維護；
大口徑擴散泵作為主抽泵，真空極限高達3×10-4Pa；另可選分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr)；
標配冷阱，提高成膜質量；可選配深冷，縮短抽真空時間
可選配E型電子槍，4~8個坩堝
可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力。
可定制各類基板尺寸，加熱或水冷
采用Inficon膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚
可沉積金屬；非金屬；化合物等薄膜材料
應用
科研與教學
主要指標
真空室：立式前開門,304不銹鋼；外壁通冷卻水，內襯不銹鋼防污板
真空系統：機械泵+擴散泵+冷阱（或分子泵、低溫泵）+（可選加羅茨泵）
極限真空：3.0E-4pa
恢復真空：大氣至4.0E-3pa≤15min
工作架：Φ640mm帽形工件盤等，扇形，行星，轉速可調
烘烤：上烘烤用進口管狀加熱器（下烘烤用碘鎢燈加熱）；溫度350℃，可調可控
蒸發源：1~3組的電阻蒸發源
電子槍：選配電子束蒸發源，功率6Kv至10Kv
離子源：Φ12cm考夫曼（可選），
工藝氣體配置：1~3只進口MFC控制
膜厚控制：光學膜厚控制儀或光柵單色儀
石英晶控：國產或進口
電源：3相，380V，50Hz，約30K
其他選配：加熱型基臺、鍍膜機配套冷水機
典型應用
等離子輔助沉積Ag膜