從膜層的功能來描述

底層電介質層:

1、決定銀層的增長情況

2、用于降低銀層的反射率

3、阻擋鈉在鋼化過程中從玻璃擴散到膜層中

4、通常材料為ZnO、SnO、TiO以及其混合物

銀層:

1、著床形式決定銀層的質量

2、厚薄及質量決定了輻射率

3、較薄的連續性結構的膜層可在相同的輻射率情況下具有更高的透過率

阻擋層（保護層)：

1、保護銀層免受沉積過程中等離子體的破壞

2、保護銀層免受鋼化過程中氧氣和其它污染物的侵襲

3、通過影響銀層與頂層電介質層之間的附著力來改善膜層的耐磨性

頂層電介質層：

1、與銀層間的附著力對耐磨性的影響非常大

2、決定膜系的耐刮傷性、耐磨性和耐化學侵襲性

單層膜的性能

ZnO膜:是銀膜的種子膜層。這是由于ZnO膜具有光滑的特性，能使上面的銀膜更均勻，提高銀膜的性能，增強膜系的透過率與輻射率。

缺點:

1、抗酸/堿能力有限

2、由于增長結構的原因，材料容易擴散

3、抗刮傷能力有限

SnO膜:

1、耐酸/堿性好

2、擴散層得到改善，尤其是與鋅混合使用時

3、與鍍有鎳鉻阻擋層的銀層之間有足夠的附著力

4、抗劃傷性能力有限（但合格）

Si3N4膜:

在所有材料中，它的耐酸/堿性較好

較好的擴散層，通常用于半導體行業

與鍍有鎳鉻的銀層之間有足夠的附著力

抗劃傷性較好

可直接鍍于玻璃面上作鈉離子阻擋層

與銀層的親和性非常差

TiO膜:

具有足夠的耐酸/堿性

能夠用作擴散層

與鍍有鈦阻擋層的銀層之間有良好的附著力

高折光指數意味著因刮擦而引起的膜層厚度微小變化會顯示較大的光學影響（不太適宜做頂層電介質層)

具有好的折射率，能改善透光率（適宜做低層電介質層)

Nb2O5膜:

1、具有好的折射率，能改善透光率(適宜做低層電介質層）

2、沉積速度較快，但價格太貴，一般不用

Bi2O3膜:

1、具有好的折射率，能改善透光率（適宜做低層電介質層)

2、沉積速度較快，但靶材的加工制造非常難

3、可靠性存在問題

4、沉積工藝難

5、僅用于Interpane的工藝

NiCr膜:

1、是銀層和SnO或Si3N4層之間具有良好附著力的必須

2、可作鈉離子的阻擋層，是銀層很好的保護層

缺點:吸收性太強

ITO膜:

1、既能導電，透明性又好，是較好的玻璃鍍膜材料，但價錢太貴

2、是優良的阻擋層

3、皮爾金頓采用

4、一般用做顯示器鍍膜材料

其它

Al2O3、HfO2、Pr2O3、Mg○膜:一般應用于光學鍍膜，少用于玻璃鍍膜

SiO2膜:一般應用于反反射膜，少用于玻璃鍍膜（反反射膜是指鍍上膜后，不會反光，看不清楚）

ZrO2、Ta2O5、CeO2膜:一般少用于玻璃鍍膜